什么等离子刻蚀（什么等离子刻蚀.）

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首先是要利用气压为10～1000帕的特定气体（或混合气体）的辉光放电，产生能与薄膜发生离子化学反应的分子或分子基团，生成的反应产物是挥发性的。

它在低气压的真空室中被抽走，从而实现刻蚀。

通过选择和控制放电气体的成分，可以得到较好的刻蚀选择性和较高的刻蚀速率，但刻蚀精度不高.。

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